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用普通真空镀膜只能镀直射表面,蒸发料粒子尤如攀登云梯一样,只能顺梯而上;而离子镀则能均匀地绕镀到零件的背面和内孔中,带电离子则好比坐上了直升飞机,能够沿着规定的航线飞抵其活动半径范围内的任何地方。





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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
辉光清洗:对工件施加负偏压,产生辉光放电,利用ya离子轰击工件表面,这种辉光放电清洗作用比较柔和,一般采取由弱到强的轰击清洗顺序,生产led灯反光杯,是怕工件太脏时一开始就强轰击,led灯反光杯镀膜厂家,可能产生---的打火而损伤工件。
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溅射镀膜原理:
溅射镀膜是利用溅射现象来达到制取各种薄膜的目的,即在真空室中利用荷能离子轰击靶表面,使被轰击出的粒子在基底上沉积的技术。辉光放电是在10-2pa-10pa真空度范围内,在两个电极之间加上高压时产生的放电现象。它是离子溅射镀膜的基础,即离子溅射镀膜中的入射离子一般利用气体放电法得到。
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