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    2020-9-23

蔡向荣
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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :占空比:占空比是指脉冲偏压的通断时间比,占空比越大,同一个周期时间内偏压输出时间越长,增大占空比可以提高离子轰击的能量,塑料反光灯注塑,有利于提高膜基结合力和膜层致密性和膜层的硬度,但会提高工件的温升;减小占空比有利于抑制打火损伤和降低工件表面的温度、辉光放电清洗和离子轰击的效果。














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镀膜基片

镀膜基片有:浮法原片、切磨玻璃、钢化玻璃、彩釉玻璃、夹层玻璃等。镀膜前基片必须用纯净水清洗,去除基片表面的灰尘、污垢、油腻等杂质,因为表面的杂质将会影响膜层的附着能力,或者影响镀膜玻璃的外观。如果基片表面存在胶印、笔印等不能清洗掉的杂质,在清洗之前必须用酒精将杂质擦去。





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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:

真空度:真空度是指处于真空状态下气体的稀薄程度,用压强表示,压强越低,其稀薄程度越大,真空度越高。镀膜过程中,真空度主要通过控制ya气流量来改变。

ya气越少,靶材溅射量越少,但真空度越高,气体分子自由程越大,塑料反光灯,散射越少,粒子碰撞几率越小,粒子迁移过程中损失的动量越少,沉积速率越大




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