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真空镀膜的形式:蒸发镀膜
工艺原理:
4)沉积原子之间产生两维碰撞,形成簇团,真空泛光灯镀膜厂家,有的在表面停留一段时间后再蒸发;
5)原子簇团与扩散原子相碰撞,或吸附单原子,或放出单原子,真空泛光灯镀膜配光,这种过程反复进行;
6)当原子数超过某一临界值时就变为稳定核,真空泛光灯镀膜价格,再不断吸附其他扩散原子而逐步长大,后与邻近稳定核合并进而变成连续膜。





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物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :
从膜层特点看,真空泛光灯镀膜,真空蒸镀低温时密度小但表面光滑、气孔低温时多、附着性不太好、内应力为拉应力绕射性差;溅射密度大、气孔少但混入溅射气体较多、附着性较好、内应力为压应力、绕射性差;离子镀密度大 ,无气孔但膜层缺陷较多,附着性---,内应力视工艺 条件而定,绕射性较好。
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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
辉光清洗:对工件施加负偏压,产生辉光放电,利用ya离子轰击工件表面,这种辉光放电清洗作用比较柔和,一般采取由弱到强的轰击清洗顺序,是怕工件太脏时一开始就强轰击,可能产生---的打火而损伤工件。
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