物理l气相沉积（真空镀膜）基本方法 ：
从被沉积物质的气化方式看，真空蒸镀为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等；溅射的镀料原子不是靠加热方式蒸发，运动单车矿工头灯反光杯，而是靠阴极溅射由靶材获得沉积原子；离子镀可以分为蒸发式或者溅射式，蒸发式为电阻加热、电子束加热、感应加热、激光加热等，溅射式由进入辉光放电空间的原子由气体提供，佛山矿工头灯反光杯，反应物沉积在基片上。
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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：
本底真空度: 本底真空度越高炉内杂气量(包括水气)越少，这---镀膜时反应气体的纯度，从而---膜层颜色的纯正和光泽鲜亮。一般本底真空应该进入5-7*10-3。
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pld缺点：1、在镀膜过程中，注塑矿工头灯反光杯，薄膜会被沉积在薄膜上的等离子本管中产生的微粒、气态原子和分子降低，采取一定的措施后也
不能完全消除.2、在控制掺杂、生长平滑的多层膜等方面pld生长部比较困难，因此进一步提高薄膜的会比较困难.
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