电动平板车矿工头灯反光杯-矿工头灯反光杯-锦城镀膜公司

公司秉承“以质---，求真务实，顾客”理念，欢迎广大客户光临了解，我们将为你的产品锦上添花.物理l气相沉积（真空镀膜）基本方法 ：从膜层特点看，真空蒸镀低温时密度小但表面光滑、气孔低温时多、附着性不太好、内应力为拉应力绕射性差；溅射密度大、气孔少但混入溅射气体较多、附着性较好、内应力为压应力、绕射性差；离子镀密度大 ，电动平板车矿工头灯反光杯，无气孔但膜层缺陷较多，附着性---，内应力视工艺 条件而定，绕射性较好。

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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响：

靶基距：靶基距是影响成膜速率的重要因素之一，随着靶基距增加，被溅射材料射向基片时与气体分子碰撞的次数增多，同时等离子体密度也减弱，动能减少，沉积速率降低，但膜层外观较好。靶基距太小，矿工头灯反光杯开发，沉积太快，工件温升大，膜层外观差。