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常见的溅射有两种:不反应溅射和反应溅射。不反应溅射指溅射气体和镀膜材料之间不发生化学反应。因此不反应溅射所使用的气体为惰性气体,高反射反光杯加工,一般使用y气(ar),称为工作气体。不反应溅射一般都用在镀金属膜层上,导电性能越好的材料,溅射速率越高。






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真空镀膜有三种形式,即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。
真空蒸镀是将沉积材料与工件同放在真空室中,然后加热沉积材料使之迅速熔化蒸发,当蒸发原子与冷工件表面接触后便在工件表面上凝结形成具有一定厚度的沉积层日。
镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :
偏压:偏压施加于工件上,在辉光清洗时工件(阴极)与炉体之间产生辉光放电,部分气被电子离化产生离子,离子(带正电)在负偏压作用下受工件吸引轰击清洗工件表面,偏压越大,对工件的轰击净化越干净,但同时工件本身的温升也越大,---是尖角位棱角位置;在离子轰击中用于加速离子,提高离子轰击工件表面的能量,去除表面氧化层和吸附物,达到提高膜层结合力的作用。
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