镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:
离子轰击:指利用高能高密度的金属离子流和ya离子流对工件进行离子轰击清洗,电动平板车高反射反光杯,能有效去除工件表面的氧化物;但需注意工件温升过热退火和轰出表面缺陷。
本底真空度: 本底真空度越高炉内杂气量(包括水气)越少,这---镀膜时反应气体的纯度,高反射反光杯加工,从而---膜层颜色的纯正和光泽鲜亮。一般本底真空应该进入5-7*10-3





公司秉承“以质---,求真务实,顾客”理念,欢迎广大客户光临了解,我们将为你的产品锦上添花.物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :从膜层特点看,深圳高反射反光杯,真空蒸镀低温时密度小但表面光滑、气孔低温时多、附着性不太好、内应力为拉应力绕射性差;溅射密度大、气孔少但混入溅射气体较多、附着性较好、内应力为压应力、绕射性差;离子镀密度大 ,无气孔但膜层缺陷较多,附着性---,内应力视工艺 条件而定,绕射性较好。
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离子镀时,蒸发料粒子是以带电离子的形式在电场中沿着电力线方向运动,习而凡是有电场存在的部位,均能获得---镀层,这比普通真空镀膜只能在直射向上获得镀层---得多。因此,这种方法非常适合于镀复零件上的内孔、凹槽0窄缝。等其他方法难镀的部位。
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