广州真空镀膜反光杯-锦城镀膜公司 -真空镀膜反光杯价格

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真空镀膜之多弧离子镀 ：该装置的优点是阴极电弧源既是蒸发源和离化源 ，又是加热源和轰击源，不用熔池，弧源可任意方位，多源布置。离化率高，一般可达60%-80%蒸发沉积速率快， 入射粒子能量高，真空镀膜反光杯加工厂家，沉积膜的和附着性能好。可蒸发各种导电材料，金属或合金， 成份不受---。能进行反应镀膜，缺点是易于产生液滴，组织不致密。

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镀膜工艺

镀膜工艺是用不同的材料在基片表面形成新表面的方法，镀膜方法有真空蒸发、真空溅射、化学还原、溶胶凝胶等。下面说一下阴极真空磁控溅射法，通过磁控溅射，在浮法玻璃的表面镀一层或多层金属、或金属化合物薄膜。通过镀膜可以改变基片的某些属性，如光学性能、电学性能、机械性能、化学性能、装饰性能等。