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真空镀膜的形式
离子镀(ion plating)燕发物质的分子被电子碰撞电离后以离子沉积在固体表面,称为离子镀。与溅镀类似,但是将基板与周围保持0.5-2kv的负电压, 使基板的前端产生暗区(dark pace),在此状态下由蒸发源放出的金属蒸气在辉光放电的电浆(plasma)中形成离子,特种灯具反光杯价格,再被暗区加速后打到基板形成披覆。





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真空镀膜机操作程序
真空镀膜机开通冷却水,启动扩散泵,加热40min。
⑩ 低压阀拉出。重复一次动作程序:左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动,当指针移动至6.7pa时,开高压阀(阀杆顺时针旋转)。
? 等低真空表“2”内指针右移动至0.1pa时,开规管灯丝开关。
a. 发射、零点测量钮“9”旋转至指向发射位置。
b. 左下旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置.
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