真空镀膜是一种在真空环境下，利用各种物理方法将金属、非金属、化合物等材料沉积在基底表面，形成薄膜的技术。真空镀膜技术广泛应用于电子、光学、装饰、防腐蚀等领域，具有精度高、附着力强、耐腐蚀等特点，是现代制造和研发中不可或缺的关键技术之一。
真空镀膜的原理是基于物理气相沉积（physical vapor deition，简称pvd）技术，即在真空环境下，利用各种物理方法如电子束蒸发、激光束蒸发、离子束溅射等将材料加热至熔点或升华点以上，使其形成蒸汽流并沉积在基底表面，终形成薄膜。
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它运用化学物质的热挥发或离子轰击时分子在化学物质表层的磁控溅射等物理学全过程，特种灯具反光杯加工，完成化学物质分子从源化学物质到塑料薄膜的可控性迁移全过程。物理学液相堆积技术性具备膜/底材结合性好、塑料薄膜匀称高密度均、塑料薄膜薄厚可操控性好、运用目标广、磁控溅射覆盖面广、塑料薄膜堆积厚、铝合金塑料薄膜平稳、可重复性好的优势。有机化学液相堆积技术性是将组成塑料薄膜的原素汽体或带有原素的化学物质出示给衬底，并根据液相功效或衬底表层上的化学变化在衬底上制取金属材料或化学物质塑料薄膜的方式。
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