pvd真空镀膜炉与您分享真空蒸镀的设备及物理原理
真空蒸镀设备主要由真空室和抽真空系统组成,真空室内有蒸发源(即蒸发加热器)、基片及基片架、基片加热器、排气系统等。
将镀膜材料置于真空室内的蒸发源中,在高真空条件下,通过蒸发源加热使其蒸发,当蒸气分子的平均自由程大于真空室的线性尺寸以后,膜材蒸气的原子和分子从蒸发源表面逸出后,很少受到其他分子或原子的碰撞与阻碍,可直接到达被镀的基片表面上,由于基片温度较低,膜材蒸气粒子凝结其上而成膜。






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为了提高涂层厚度的均匀性,采用行星机构或行星运动形式等旋转运动设备的真空室具有---的涂膜均匀性、---的涂层台阶覆盖性能、较大的承载能力,并能充分利用有用空间。这是一种常见的运动形式。排气系统通常由机械泵、分散泵、管路和阀门组成。 为了提高泵的流量,可以在机械泵和分散泵之间增加增压器。 因此,排气系统不仅要在短时间内以低压---快速的工作循环,而且还需要快速清除气体的蒸发源和蒸发工件的表面。蒸发系统包括电气设备和加热蒸发源。

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