真空镀膜反光杯-锦城镀膜-乐平真空镀膜反光杯

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磁控溅射：

原理：磁控溅射法被认为是镀膜技术中成熟的zn0:a1薄膜制备方法，通常分为直流溅射（dc）和射频溅射（ic）两种。该方法是利用高能粒子轰击靶材，使得靶材原子或分子被溅射出来并沉积到衬底表面的一种工艺。

优点：以溅射产率高、基片温升低、薄膜基底结合力好、装置性能稳定、操作控制方便等优点受到---，磁控溅射法可获得高度c轴取向，表面平整度高，可见光透过率较高及低电阻率zn0:a1的薄膜。

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从镀膜的原理及特点看，真空蒸镀工件不带电，真空条件下金属加热蒸发沉积到工件表面，沉积粒子的能量与蒸发时的温度对应。溅射的工件为阳极，靶为阴极，利用原子的溅射作用把靶材原子击出而沉积在工件表面上，真空镀膜反光杯价格，沉积原子的能量由被溅射原子的能量分布决定。离子镀的工件为阴极，蒸发源为阳极，进入辉光放电空间的金属原子离子化后奔向工件，乐平真空镀膜反光杯，并在工件表面沉积成膜，沉积过程中离子对基片表面、膜层与基片的界面以及膜层本身都发生轰击作用，粒子的能量决定于阴极上所加的电压。