佛山锦城镀膜-电筒反光杯价格-佛山电筒反光杯

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    2022-5-8

蔡向荣
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物理l气相沉积(真空镀膜)基本方法 :


1、从沉积粒子能量(中性原子)来看,电筒反光杯厂家,真空蒸镀为0.1-1ev,电筒反光杯价格,溅射为1-10ev,离子镀为0.1-1ev(此外还有高能中性原子)。

2、从沉积速率来看,真空蒸镀为0.1-70μm/min,溅射为0.01-0.05μm/min(磁控溅射接近于真空蒸镀),佛山电筒反光杯,离子镀为0.1-50μm/min。

















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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响:

镀膜时间:膜层厚度随镀膜时间的增加而增加,但不是线形增加,当厚度达到一定的时候,增加速度会变慢后基本停止,而且镀膜时间越长膜层应力越大.外观越差。

送气方式和气体流量:采用从少到多逐步增加气体流量的方式加气使膜层从金属逐渐过渡到化合物是---的一种加气方式,如做黑膜这样还可以---靶,使颜色做得更深。








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镀膜工艺流程中工艺参数的控制和对膜层沉积的影响 :弧靶电流:弧靶电流越大,靶材蒸发量越大,靶面温度越高,冷却越差,加工电筒反光杯,弧靶产生的液滴大颗粒越多,膜层外观越差,膜层中的缺陷越多。






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